EMI

技術簡介

磁輻射干擾(EMI)Electromagnetic Interference ,是電磁波由機電子設備例如電腦、手機等手持裝置,或其他電器外溢的現象。因此電產品若無有效的抗 EMI 設計,則電子產品內部因電流或磁感應所生成的電磁波將會外溢使其外洩至週遭環境進而影響使用者,或干擾所處場所的其他設備影響其操作或量測的準確度。

另一方面,電磁波輻射耐受性(EMS)是指電子設備抵禦電磁波進入機器中的能力,一般醫療器材、飛機等均有此規範,以免操作失靈。無論是EMI或EMS的考量,提供防止電磁波外洩或阻擋電磁波入侵,都需要在機器中加入抗電磁干擾或屏蔽的設計。

EMI 依傳送方式可分為傳導性(Conducted)和輻射性(Radiated)兩種,此兩種EMI 有時單獨發生,亦有同時互相發生。 EMI的頻率範圍一般在10Hz~100GHz 之間但各種電子產品所產生的電磁波或受電磁波干擾的敏感頻率的範圍不同,如電腦電子組件較敏感的電磁波為 450KHz~1GHz 之間,而一般其他工業電子產品則較敏感的頻率介於500KHz~10MHz之間。

本公司是以捲對捲濺鍍技術進行薄膜的沈積,提供在PET 或PI 基材上製作抗EMI 膜,提供各種因應不同抗EMI規範的子產品使用。

產品規格

<40dB 膜層架構

>60dB 膜層架構

膜厚均勻度誤差 < 5%

阻抗均勻度誤差 < 5%

Adhesion > 5B

阻抗和拉力需依客製化規範為主。


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